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新聞稿

(資料來源 : 香港政府新聞網 )

2011 年稅務(修訂) (第 2 號)條例草案刊憲

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    《2011 年稅務(修訂) (第 2 號)條例草案》(條例草案)今日(二月二十五日) 刊憲。條例草案的主要目的,是落實 2010-11 年度政府財政預算案中就購買版權、註冊外觀設計及註冊商標的資本開支提供利得稅扣減的建議。

    條例草案修訂《稅務條例》(第 112 章),以推行有關的扣稅建議和其他改善措施,包括:

*   就購買版權、註冊外觀設計及註冊商標的資本開支提供扣稅,由購買年度開始,以直線法計算,連續五年按年扣除;

*   取消現時適用於專利權及任何工業知識的權利的扣稅安排中「在香港使用」的規定,並把出售專利權及任何工業知識的權利時的須課稅售賣得益金額,由全數售賣得益減低至以先前已獲得的扣稅款額為上限。上述的改善措施亦會適用於版權、註冊外觀設計及註冊商標的扣稅建議;以及

*   就扣稅建議及改善措施加入常用的反避稅條文。

    財經事務及庫務局發言人說:「我們期望可以盡早實施條例草案內的扣稅建議及改善措施,以鼓勵企業更廣泛運用知識產權、促進創新和改進,並推動香港的創意產業發展。」

    條例草案將於三月九日提交立法會。

2011 年 2 月 25 日(星期五)
香港時間 11 時 34 分